水素化Ｔがおよぼすシリコン表面の光学パラメータの変化
(The change in opeical parameter during plasma lnyclrogenation of Si(100))
日本真空協会 第39回真空二関する連合講演会. 1998年11月11日-1998年11月13日.
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作成時刻: 2017-02-18 01:34:46 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:51:58 +0900