ホウ素イオン注入によるCVDホモエピタキシャルダイヤモンドのp型電気伝導特性制御
(p-type control by B ion implantation in homoepitaxial diamond films grown by CVD)
日本応用物理学会. 2001年03月28日-2001年03月31日.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-02-18 02:14:22 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:13:41 +0900