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AIC法による低温多結晶シリコン薄膜形成挙動の微細構造解析
(Microstructural Analysis of the formation behavior of polycrystalline silicon thin films during the aluminum induced crystallization (AIC))

池田賢一, 廣田健, 藤本健資, 杉本洋平, 高田尚記, 井 誠一郎, 中島英治, 中島寛.
電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会. 2008.

NIMS著者


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    作成時刻: 2017-01-08 03:28:56 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:24:26 +0900

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