HOME > 口頭発表 > 書誌詳細オゾンによるシリコン表面酸化 2 :(001)表面上での反応機構と表面応力(Oxidation of Si surface with ozon radical: (001)surface)成島哲也, 板倉 明子, 北島 正弘, 三木 一司, 黒河明, 河辺隆也, 成島哲也, 黒河明, 河辺隆也. 第62回応用物理学会学術講演会. 2001.NIMS著者板倉 明子Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-18 02:17:29 +0900更新時刻: 2017-07-10 18:15:10 +0900