Characterization of Ti-Ni Shape Memory Thin Films Formed by Sputtering.
(スパッタリングによって作製したTi-Ni形状記憶合金薄膜の特性評価.)
First International Conference on Processing Materials for Prope. 1993年11月07日-1993年11月10日.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-02-18 00:44:10 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:25:21 +0900