HOME > 口頭発表 > 書誌詳細シリコン酸化膜における応力特性の計算化学的検討(Study of stress of silicon oxide)北島 正弘, 山田有場, 宮本明, 遠藤明, 高見 誠一, 久保百司, 山田有場, 宮本明, 遠藤明, 久保百司. 第１９回表面科学講演大会. 1999年12月02日-1999年12月03日.NIMS著者Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-18 01:51:46 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:01:09 +0900
