MOCVD法によるMoS2単層膜のウエハスケールvan der Waalsエピタキシーの開発
(Development of wafer-scale van der Waals epitaxy of MoS2 monolayer films by MOCVD method)
シリコン材料・デバイス研究会（SDM）. 2025-10-31. 招待講演
NIMS著者
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作成時刻: 2025-11-14 03:12:10 +0900 更新時刻: 2025-11-14 03:12:10 +0900