Surface stress relaxation of silicon oxide by radical nitrogen
(励起窒素によるシリコン酸化膜応力の緩和)
Fourth International Symposium on Control of Semiconductor Inter. 2002年10月21日-2002年10月25日.
NIMS著者
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作成時刻: 2022-09-05 11:15:26 +0900 更新時刻: 2022-09-05 11:15:26 +0900