HOME > Presentation > Detail原子レベルで平坦なチャージアップしない極薄エピタキシャルアルミナ膜の作製(Formation of non-charging atomically flat ultra-thin epitaxial alumina films )吉武 道子, ネムシャク スラボミール, 知京 豊裕. 2013真空表面科学合同講演会. November 26, 2013-November 28, 2013.NIMS author(s)YOSHITAKE, MichikoCHIKYO, ToyohiroFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-02-14 11:22:07 +0900Updated at: 2017-07-10 21:40:40 +0900