新規原料（GaCp*）による酸化ガリウム薄膜の原子層堆積
(Atomic Layer Deposition of Gallium Oxide Thin Films Using a New Precursor GaCp)
2018年 第79回応用物理学会秋季学術講演会. 2018.
NIMS著者
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作成時刻: 2018-07-01 16:43:08 +0900更新時刻: 2018-07-01 16:43:08 +0900