HOME > 口頭発表 > 書誌詳細高誘電率絶縁膜HfO2中の炭素不純物の原子構造と電子構造白石賢二, 山田啓作, 斎藤 峯雄, 大野 隆央, 川原孝昭, 鳥居和功, 三橋理一郎, 武藤彰良, 堀内淳, 伊藤浩之, 北島洋, 有門経敏. 極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性. 2004.NIMS著者Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 10:53:10 +0900更新時刻: 2017-07-10 18:57:22 +0900