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著者名白石賢二, 山田啓作, 斎藤 峯雄, 大野 隆央, 川原孝昭, 鳥居和功, 三橋理一郎, 武藤彰良, 堀内淳, 伊藤浩之, 北島洋, 有門経敏.
タイトル高誘電率絶縁膜HfO2中の炭素不純物の原子構造と電子構造
会議名極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性
発表年2004
言語Japanese
外部での文献参照

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