HOME > 口頭発表 > 書誌詳細光励起誘電緩和法(2):紫外光を使ったステップ応答特性と電荷移動過程との相関(Photo-excited dielectric relaxation (2):Step response to UV irradiation and its correlation with charge transfer process)石井 真史, 原子 進, 趙 新為, 小室 修二. 2010年秋季 第71回 応用物理学会学術講演会. 2010.NIMS著者石井 真史Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-02-14 11:13:03 +0900 更新時刻 :2017-07-10 20:52:34 +0900