HOME > 口頭発表 > 書誌詳細短チャネルFET集積化に向けたコンタクト金属誘起引張歪みによるMoS2の伝導度向上(MoS2 conductivity enhancement by contact-metal-induced tensile strain toward short-channel-FETs integration)渥美 圭脩, 西村 知紀, 金橋 魁利, 岡田 直也, 入沢 寿史, 佐久間 芳樹, 長汐 晃輔. 第87回応用物理学秋季学術講演会. 2026年09月08日-2026年09月11日.NIMS著者佐久間 芳樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2026-09-15 03:06:50 +0900 更新時刻: 2026-09-15 03:06:50 +0900