HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Ge窒化膜からの選択的窒素除去によるGeナノシート形成(Ge nanosheet formation by selective nitrogen removal from Ge nitride films)森本 修太, 津田 龍之介, 細井 卓治. 第86回 応用物理学会 秋季学術講演会. 2025年09月07日-2025年09月10日.NIMS著者細井 卓治Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2025-09-30 03:14:27 +0900 更新時刻: 2025-09-30 03:14:27 +0900