HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Stress Induced Change in Hole Concentration in Superlattice Films of Bismuth-based Oxide Superconductors.(ビスマス系高温超伝導体超格子薄膜における応力誘起電荷移動)HATANO, Takeshi, ステファンラバット, ISHII, Akira, ARISAWA, Shunichi, 戸叶一正, ステファンラバット, 戸叶一正. 1998年 応用超伝導会議. 1998年09月13日-1998年09月18日.NIMS著者有沢 俊一Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:21:38 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:50:40 +0900