プラズマCVDによる同位体濃縮Si薄膜の作成
(Formation of isotope enrichment Si films by plasma CVD)
日本金属学会. 1997年09月24日-1997年09月26日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-18 01:18:44 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:43:42 +0900