3成分系high-k酸化物薄膜の断面TEMによる構造評価とSi基板と界面の整合性
(Structure analysis of three compositional high-k gate oxides)
「極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性」研究会. 2003年01月24日-2003年01月25日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-18 03:06:30 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:38:33 +0900