室温低密度酸素プラズマにより作製した超薄シリコン酸化膜の電気的性質
(Electrical properties of the ultrathin silicon oxide film grown by low density oxygen plasma at room temperature)
44th National Symposium of Americal Vaccum Society. 1997年10月20日-1997年10月24日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-18 01:21:25 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:45:06 +0900