SAMURAI - NIMS Researchers Database

NIMS Awardシンポジウム2026

HOME > 口頭発表 > 書誌詳細

FZシリコンの拡散接合に及ぼす酸化膜の影響
(Influence of Oxide Layer on Diffusion Joining of FZ Silicon)

目黒 奨, 大橋修, 大橋修, 大橋修, 大橋修.
日本金属学会 1996年秋季大会. 1996年09月28日-1996年09月30日.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻: 2017-02-18 01:07:57 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:37:58 +0900

    ▲ページトップへ移動