HOME > 口頭発表 > 書誌詳細電子照射によるシリコンの表面応力の緩和(Electron-Stimulated Surface Stress Relaxation of Si)成島哲也, 板倉 明子, 河辺隆也, 北島 正弘. 2002年度 第22回表面科学講演大会. 2002年11月26日-2002年11月28日. 招待講演NIMS著者板倉 明子Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-18 02:56:15 +0900 更新時刻: 2024-03-05 11:39:37 +0900