ヘキサフルオロジシランを用いた赤外レーザ照射によるSiの同位体分離.
(Silicon Isotope Separation from Hexafluorodisilane by Infrared Pulse Laser Irractiation.)
日本金属学会. 1993年10月16日-1993年10月18日.
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作成時刻: 2017-02-18 00:43:54 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:25:12 +0900