スパッタリングによるTi-Ni形状記憶合金薄膜の製作条件の検討.
(Study of Sputtering Condition to Form Ti-Ni Shape Memory Alloy Film.)
表面技術協会. 1993年03月17日-1993年03月19日.
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作成時刻: 2017-02-14 10:58:45 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:17:29 +0900