ゲート絶縁膜/Si界面安定形成を目的とした縦方向組成傾斜HfO2-Al2O3膜の作製と構造評価
(Preparation and structural analysis of HfO2-Al2O3 compositionally gradient film to form stable interface)
第51回応用物理学関係連合講演会. 2004.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 03:57:14 +0900更新時刻: 2017-07-10 18:55:35 +0900