HOME > 口頭発表 > 書誌詳細シリコンのプラズマ酸化中の表面応力の測定(Surface Stress in Silicon Oxide Layer made by Plasma Oxidation)板倉 明子, 成島哲也, 北島 正弘, 成島哲也. 原子衝研究協会 第23回研究会. 1998年08月20日-1998年08月22日.NIMS著者板倉 明子Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-18 01:32:05 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:50:25 +0900