シリコン酸化膜の窒化中の応力変動と膜質評価
(Surface stress during nitridation of SiO2 and the structure of the film)
第49回応用物理学会関係連合講演会. 2002年03月27日-2002年03月30日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 04:37:58 +0900 更新時刻: 2018-05-30 18:49:43 +0900