オゾンによるシリコン（100）面の低温酸化：表面応力とか化学反応のメカニズム
(LOW TEMPERATURE OXIDATION OF Si(100) WITH OZON RADICALS: CHEMICAL REACTION MECHANISM AND SURFACE STRESS)
AVS Internationl Symposium IUVSTA 15th I ternational Vacuum Cong. 2001年10月29日-2001年11月02日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 04:23:48 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:14:23 +0900