コンビナトリアル手法により作製した3成分系high-k酸化物膜の断面TEMによる構造解析
(Structural analysis of three compositional high-k gate oxide by TEM observation)
第63回応用物理学会学術講演会. 2002年09月24日-2002年09月27日.
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作成時刻: 2017-02-18 02:50:50 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:31:13 +0900