バイアスを印可したプラズマ酸化過程におけるSi表面応力の研究Ⅱ
(Surface Stress in Silicon Oxide Layer made by Plasma Oxidation with Applying Sample BiasⅡ)
日本物理学会 1998年秋の分科会. 1998年09月25日-1998年09月28日.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-02-18 01:32:11 +0900 更新時刻: 2018-05-21 18:21:40 +0900