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NIMS Awardシンポジウム2026

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量子化学計算によるシリコン表面からのSiO2の脱離過程
(SiO desorption process from Si surface as invertigated by quantum chemical calculations)

中村一隆, 北島 正弘, 遠藤明, 宮本明, 中村一隆, 遠藤明, 宮本明.
原子スケール制御表面・界面国際シンポジウム. 1997年10月27日-1997年10月30日.

NIMS著者


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      作成時刻: 2017-02-18 01:19:18 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:44:01 +0900

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