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著者名荒井隆道, 深田 直樹, 長谷 宗明, 石岡 邦江, 北島 正弘, 村上浩一.
タイトルフェムト秒レーザー光照射による石英ガラス中へのナノSi領域の初期形成過程
(Initial Formation Process of Nano-Si Regions in SiO2 by fs-laser Irradiation)
会議名2004年春季 第51回応用物理学関係連合講演会
発表年2004
言語Japanese
外部での文献参照

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