HOME > 口頭発表 > 書誌詳細レーザーアブレーション法により生成されたSiナノ細線のフォノン閉じ込めと酸化の自己停止効果(Phonon confinement effect and self-limiting of oxidation in silicon nanowires synthesized by laser ablation)岡田直也, 大島崇, 深田 直樹, 内田紀行, 木塚徳志, 鶴井隆雄, 伊藤俊, 村上浩一. 2005年秋季第66回応用物理学会. 2005.NIMS著者深田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:56:33 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:22:03 +0900