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レーザーアブレーション法により生成されたSiナノ細線のフォノン閉じ込めと酸化の自己停止効果
(Phonon confinement effect and self-limiting of oxidation in silicon nanowires synthesized by laser ablation)

岡田直也, 大島崇, 深田 直樹, 内田紀行, 木塚徳志, 鶴井隆雄, 伊藤俊, 村上浩一.
2005年秋季第66回応用物理学会. 2005.

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    作成時刻: 2017-01-08 04:56:33 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:22:03 +0900

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