HfO2/GaAs界面特性改善に向けたGe挿入層効果の検討
(Investigation on the effects of Ge layer insertion for improvement of HfO2/GaAs interface properties)
第55回応用物理学関係連合講演会. 2008年03月27日-2008年03月30日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 11:45:31 +0900 更新時刻: 2017-07-10 20:09:52 +0900