金属電極／high-k絶縁膜キャパシタのフラットバンド電圧特性に与える仕事関数変調及び熱処理の影響
(Influences of Annealing Conditions on Flatband Voltage Properties Using Continuously Workfunction-Tuned Metal Electrodes)
シリコン材料・デバイス研究会（SDM）. 2006年06月21日-2006年06月22日.
NIMS著者
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作成時刻: 2019-03-04 09:36:37 +0900 更新時刻: 2019-03-04 09:36:37 +0900