HOME > Presentation > Detail低圧高周波誘導プラズマCVDによるシリカ基板上へのc-BN膜の作製と評価松本精一郎, K.K.Chattopadhyay, ZHANG Yafei, 坂口 勲, 柳雅義, 伊藤滋, 明石和夫, 松本精一郎, K.K.Chattopadhyay, ZHANG Yafei, 柳雅義, 伊藤滋, 明石和夫. 1999年秋季第60応用物理学会学術講演会. September 01, 1999-August 03, 1999.NIMS author(s)SAKAGUCHI, IsaoFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-02-14 10:54:03 +0900 Updated at: 2018-05-30 18:27:34 +0900