HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Dose-rate dependent implantation of negative copper Ion Implantation into silica glasses and effects on colloid formation(照射線量率に依存するシリカガラスへの負Cuイオン注入及び金属微粒子形成への影響)KISHIMOTO, Naoki, V.T.Gritsyna, TAKEDA, Yoshihiko, 李致圭, 斎藤鉄哉, V.T.Gritsyna, 李致圭, 斎藤鉄哉. 絶縁体照射効果国際会議. 1997年09月14日-1997年09月19日.NIMS著者武田 良彦Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:43:14 +0900 更新時刻: 2023-04-09 15:06:45 +0900