HOME > 口頭発表 > 書誌詳細高圧下の-FeSi2の電子状態および構造解析 (II):圧力下でのSi-Si結合の伸長(Electronic and structural analyses of -FeSi2 under high pressure conditions (II): Si-Si bond expansion under high pressure)石井 真史, 小向康夫, 森 嘉久, 財部健一. 第68回応用物理学会学術講演会. 2007.NIMS著者石井 真史Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:09:58 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:00:31 +0900