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NF3+水素ラジカル処理によるシリコン量子ナノディスクの直径制御(2) =酸化膜厚依存性=

橋本 剛, 久保田智広, 竹口 雅樹, 西岡賢祐, 浦岡行治, 冬木隆, 山下一郎, 寒川誠二.
第68回応用物理学会学術講演会. 2007.

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    作成時刻 :2017-01-08 05:31:40 +0900 更新時刻 :2017-07-10 20:03:12 +0900

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