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NF3+水素ラジカル処理によるシリコン量子ナノディスクの直径制御(2) =酸化膜厚依存性=
第68回応用物理学会学術講演会. September 04, 2007-September 08, 2007.
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Created at: 2017-01-08 05:31:40 +0900 Updated at: 2017-07-10 20:03:12 +0900