赤外レーザによる28Si濃縮に及ぼすSi2F6及び不活性ガス流量の影響
(Effect of Flow Rates of Si2F6 and Additive Inert Gased on the 28Si Concentration by IR Laser)
日本金属学会 秋期大会. 1996年09月28日-1996年09月30日.
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作成時刻: 2017-02-18 01:07:42 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:37:51 +0900