新規原料（ GaCp*)によるGa2O3薄膜の原子層堆積
( Atomic Layer Deposition of Gallium Oxide Thin Films Using a New Precursor "GaCp*")
第139回講演大会 表面技術協会. 2019.
NIMS著者
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作成時刻: 2019-10-08 03:00:22 +0900更新時刻: 2019-10-08 03:00:22 +0900