HOME > Presentation > DetailAlによる還元作用を利用したSiO2表面層でのSi析出とフェムト秒レーザー照射効果(Si nanocrystal in Al-doped Si oxide film and femtosecond laser irradiation)内田紀行, 深田 直樹, 三上容平, 長谷 宗明, 北島 正弘, 村上浩一. つくばone-dayワークショップ:ナノとバイオの接点. 2006-03-09.NIMS author(s)FUKATA, NaokiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-02-14 11:39:57 +0900Updated at: 2017-07-10 19:35:23 +0900