HOME > 口頭発表 > 書誌詳細レーザーアニールによるSiOX中でのシリコンナノ結晶の析出プロセス(Formation process of silicon nanocrystals in SiOx by laser annealing)岡見威, 金藤浩史, 内田紀行, 深田 直樹, 村上浩一. 2007年春季第54回応用物理学関係連合講演会. 2007.NIMS著者深田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:02:20 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:52:39 +0900