Selective Area Growth of m-plane α-Ga2O3 by Halide Vapor Phase Epitaxy
Compound Semiconductor Week 2025 (CSW2025). 2025年05月27日-2025年05月30日.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2025-07-01 03:07:52 +0900 更新時刻: 2025-07-01 03:07:52 +0900