HOME > 口頭発表 > 書誌詳細原子層堆積酸化物による分子性酸化物の溶媒和(Solvation of molecular oxide by atomic layer deposition oxide)佐藤 宗英, Roy G. Gordon. The AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition 2014 (ALD . 2014.NIMS著者佐藤 宗英Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:32:02 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:50:40 +0900