窒化処理シリコン酸化膜の応力変動と膜質評価
(Surface stress during nitridation of SiO2 and the structure of the film)
第43回真空に関する連合講演会. 2002年10月16日-2002年10月18日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 04:25:18 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:32:51 +0900