HOME > Presentation > Detail液体原料を用いた高純度インジウム酸化膜の原子層堆積(In2O3 films deposited by atomic layer deposition using liquide In precursor)水谷 文一, 東慎太郎, 生田目 俊秀. 第136回表面技術協会講演大会. 2017.NIMS author(s)NABATAME, ToshihideFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-08-02 22:30:46 +0900Updated at: 2018-06-05 14:11:31 +0900