HOME > Presentation > DetailSiナノ結晶を含むSi熱酸化膜及びSiO2/Si界面での重水素挙動(Behavior of deuterium atoms in thermally oxidized SiO2 layer containing silicon nanocrystals and at Si/ SiO2 interface)辻村理俊, 内田紀行, 深田 直樹, 比田剣之輔, 小島健太郎, 岸本 直樹, 村上浩一. 2008年秋季 第69回応用物理学会学術講演会. September 02, 2008-September 05, 2008.NIMS author(s)FUKATA, NaokiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 04:33:45 +0900 Updated at: 2017-07-10 20:16:00 +0900