クリプトン・酸素希釈酸化中のシリコン表面応力変動
(The surface stress during plasma oxidation by using kripton and oxygen mixture gas.)
極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性（第６回研究会）. 2001年01月26日-2001年01月27日.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-01-08 03:36:20 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:11:00 +0900