ALD反応炉内での原子制御型ドット堆積を目指したスプレー法の開発
(A spray technique toward atomically precise dot deposition in ALD chamber)
第25回シンポジウム「原子層堆積/原子層エッチングの基礎と応用」. 2017-02-01. 招待講演
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-19 04:39:39 +0900 更新時刻: 2024-03-05 11:46:43 +0900