HOME > Presentation > DetailSi熱酸化膜中及びSiO2/Si界面での重水素挙動(Behavior of deuterium atoms in thermally oxidized SiO2 layer and at Si/ SiO2 interface)辻村理俊, 白川亮太, 内田紀行, 深田 直樹, 比田剣之輔, 小島健太郎, 村上浩一. 春季第55回応用物理学会学術講演会. March 27, 2008-March 30, 2008.NIMS author(s)FUKATA, NaokiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 04:56:53 +0900 Updated at: 2017-07-10 20:09:03 +0900